鈦靶材

鈦旋轉(zhuǎn)靶采用真空熔煉工藝制得，尺寸及純度根據(jù)客戶要求定制。
鈦平面靶采用真空熔煉工藝制得，尺寸及純度根據(jù)客戶要求定制。

純度：99.7-99.9999%
應(yīng)用領(lǐng)域：半導(dǎo)體分離器件、平面顯示器、儲存器電極薄膜、工件表面涂層、玻璃鍍膜工業(yè)、薄膜太陽
能工業(yè)、節(jié)能玻璃工業(yè)、光學(xué)鍍膜工業(yè)、工具及裝飾鍍膜工業(yè)等。

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